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分子束外延生长ZnO薄膜及性能研究

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成果类型:
期刊论文
作者:
周映雪;史向华;俞根才;张新夷;阎文胜;...
作者机构:
[周映雪] 复旦大学
[史向华] 长沙电力学院物理系
[张新夷] 复旦大学同步辐射研究中心
[阎文胜; 韦世强] 中国科学技术大学
[谢亚宁] 中科院高能物理所
语种:
中文
关键词:
分子束外延;ZNO薄膜;性能;扩展X射线吸收精细结构;X射线衍射;氧化锌;半导体;材料;同步辐射
关键词(英文):
ZnO
期刊:
核技术
ISSN:
0253-3219
年:
2003
卷:
26
期:
1
页码:
9-12
基金类别:
国家重点基础研究专项 (G2 0 0 1cb3 0 95 0 5 )和表面物理实验室开放课题的资助;
机构署名:
本校为其他机构
院系归属:
物理与电子科学学院
摘要:
用分子束外延(MBE)和氧气氛方法,并改变束源炉和衬底生长温度,在Si(100)衬底上,采用Zn作缓冲层以解决ZnO层与衬底间的晶格失配问题,生长得到ZnO薄膜.在ZnO/Zn/Si(100)薄膜样品的X射线衍射(XRD)谱中,观测到ZnO的(100)、(002)、(101)、(102)和(103)等衍射峰;用原子力显微镜(AFM)观测ZnO薄膜的表面形貌,为直径约80-90nm的量子点,表明已得到具有纳米结构的ZnO薄膜.用同步辐射EXAFS技术研究了ZnO薄膜的局域结构,得到有关的几个结构参数.
摘要(英文):
ZnO is a II-VI compound with a wide direct gap of about 3.37eV at room temperature. It is an important compound for information techniques. The ZnO thin films are deposited on Si (100) substrate by molecular beam epitaxy (MBE) associated with oxygen atmosphere method, under different temperatures of molecular beam source and substrate. The Zn buffer layer is used in order to minimize the effect of mismatch of crystal lattice between Si and ZnO. In the X-ray diffraction spectrum of ZnO/Zn/Si (100), peaks specific to ZnO at (100), (002), (101), (102) and (103) were observed. Images from the atom...

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