多孔硅微腔微结构与光学特性研究

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成果类型：

会议论文

作者：

史向华;刘小兵

作者机构：

长沙电力学院物理系(长沙)

语种：

中文

关键词：

多孔硅微腔;原子力显微镜;多层结构;扫描电子显微镜;微结构;纳米材料;发光材料

年：

2001

页码：

181-184,190

会议名称：

第四届中国功能材料及其应用学术会议

会议论文集名称：

第四届中国功能材料及其应用学术会议论文集

会议时间：

2001-10-01

会议地点：

厦门

会议赞助商：

中国仪器仪表学会

机构署名：

本校为第一机构

院系归属：

物理与电子科学学院

摘要：

多孔硅微腔是采用交替变化脉冲腐蚀电流密度的方法制成的多孔度周期性变化的多孔硅结构,即多孔硅微腔.我们用原子力显微镜(AFM)和扫描电子显微镜(SEM)对多孔硅微腔的侧向解理的截面进行了观测,得到了不同多孔层及其界面处的图像.微腔截面的扫描电镜(SEM)图像清楚地显现出第Ⅱ型多孔硅微腔的“三明治”结构,即中心发光层被夹在两个Bragg反射镜之间.这些结果表明结合分子束外延技术和电化学腐蚀方法可以很容易得到多孔硅微腔.

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